Appellation  

Машина sputtering иона TLJ-140

Метод покрытия

Sputtering иона

Система вакуума

Сразу роторные вачуумные насосы 2L/S лопасти

Типы мембраны

Металлопленочно  

Структура Sputtering

Цель Φ63.5mmCircular плоская

Стеклянное устройство обработки данных

140mm×H140mm

Пленки Тайвань

Φ40mm может попробовать вверх по 6 чашкам, воде, очищать способный для того чтобы попробовать

anti-sputtering.

Поднимающие вверх клапаны

Комната на верхнем покрытии облегчить газ.

Единообразие пленки

≤±5%

Управление вакуума

Ручное управление /Automatic

Отростчатый газ

Предназначенный газ воздуха или аргона, оборудованный с напуском газа аргона и

 микро- регулировка для взвинчивания.

Сила

≥5KW