Свойство и спецификация оборудование для нанесения покрытия вакуума плоского стекла

Используют оборудование для нанесения покрытия вакуума плоского стекла главным образом в плоском стекле, acrylic, ПК, плакировке высокомарочной, многофункциональной мембране ЛЮБИМЧИКА поверхностной металла, пленке электромагнитный защищать, мембране пленки реакции составной, прозрачно проводной пленке, antireflection (AR), рефлекторной пленкой, как Низкое-E покрытие. Компания будет обеспечить конструкцию требований к потребителя, обеспечивает полный диапасон оборудования для процесса, в отношении «ключевых» инженерных служб.
         Характеристики оборудования:
   1, оборудование sputtering магнетрона вакуума, твиновский катод, ЕСЛИ sputtering технология, и напечатанные предварительные системы управления.
   2, совсем автоматизированный производственный процесс, непрерывно. Температура workpiece плакировкой была до 350, регулируемое заречье контроля температуры,
   3, материалы камеры вакуума использовали SUS304, полируя стенку камеры вакуума с обрабатывать шариков брызга стены полируя.
   4, между камерой вакуума отделенной независимым лордом, нас конструировали плиты клапана можно эффектно отрезать, и стабилность газа. Только отечественные компании имеют технологию мы конструировали и изготовленные плиты клапана, которые отечественное родовое чем настоящее влияние запечатывания клапанной решетки лучшего и прочной.
   5, используемый магнитный привод для того чтобы защитить стабилность передачи. Вся производственная линия параграфа используя привод мотора скорости VVVF, изменяемую скорость
   6, электрические системы управления: экран касания мембраны и режим автоматического управления PLC, человекомашинный диалог для того чтобы достигнуть данных показывают тому деятельность и управление
   7, главным образом технические параметры:
   8, предел давления вакуума: 7 × 10-4Pa сентябрь, средний цикл -го продукции: 8 0 sec/-
   10, субстрат-Размер: 8 5 0 × 1 5 0 0 (mm) (смогите быть подгоняно по просьбе)
   11, единообразие пленки: ± 2%
   12, стабилность пленки: международные стандарты встречи