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99.99% प्लेटिनम पीटी Sputtering लक्ष्य/99.99% प्लेटिनम छर्रों/
₫10,17,956 - ₫25,44,890
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XinKang 2N5 TiB2 सिरेमिक लक्ष्य टाइटेनियम डाइबोराइड मैग्नेट्रोन स्पटरिंग लक्ष्य TiB2 सिरेमिक सामग्री
₫25,44,890 - ₫38,17,335
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हार्डवेयर टूल कोटिंग के लिए DIA 100*40MM गोल टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
₫4,58,081 - ₫5,59,876
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अनुकूलित आकार विभिन्न मिश्र धातु लक्ष्य स्ट्रोटरिंग धातु लक्ष्य आंशिक टिकटनी धातु लक्ष्य आंशिक टिकटनी धातु लक्ष्य
₫38,17,335 - ₫50,89,780
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पतली फिल्म कोटिंग के लिए थोक फैक्टरी धातु जिंक जेडएन 99.99% जिंक स्पटरिंग लक्ष्य
₫4,58,08,015 - ₫4,83,52,905
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इतो ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड के लिए उच्च शुद्ध sputtering लक्ष्य आरईएस
₫12,72,445 - ₫25,44,890
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सिरेमिक लक्ष्य इतो ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड Sputtering लक्ष्य 99.99% संबंध तांबा वापस थाली
₫2,74,84,809 - ₫2,79,93,787
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उच्च शुद्धता 99.99% 4N सिरेमिक आईटीओ लक्ष्य ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड कोटिंग के लिए sputtering लक्ष्य
₫19,08,668 - ₫20,35,912
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थर्मल वाष्पीकरण और मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग मशीन के लिए अल आईटीओ सीआर स्पटरिंग लक्ष्य
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99.99% आईटीओ इंडियम टिन ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट बॉन्डिंग कॉपर बैक के साथ
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इंडियम पिंड सामग्री In2Se3 इंडियम सेलेनाइड स्पटरिंग लक्ष्य 99.995% इंडियम धातु गांठ पिंड
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2 इंच * 0.125 "मोटाई ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड sputtering लक्ष्य आईटीओ लक्ष्य के साथ 99.99% शुद्धता तांबे के साथ समर्थन प्लेट
₫45,80,802 - ₫50,89,780
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ईण्डीयुम टिन ऑक्साइड इतो 99.99% sputtering लक्ष्य के लिए पतली फिल्म कोटिंग
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न्यूनतम ऑर्डर: 1 नग
उच्च शुद्धता 99.9%- 99.99% आईटीओ लक्ष्य, 1-10 इंच इंडियम टिन ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य
₫2,54,48,897 - ₫10,17,95,588
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इंडियम इनगट उच्च शुद्ध इंडियम इनगट सामग्री In2Se3 इंडियम सेलेनाइड स्पटरिंग लक्ष्य
₫40,71,824 - ₫48,35,291
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बड़े आकार का फ्लोट ग्लास कोटिंग सिस्टम मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग सिस्टम
₫17,81,42,27,900
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